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Modelagem dos processos químicos em plasmas de misturas gasosas usadas na corrosão de silício. Parte 1: CF4 / O2 Modeling of the chemical processes in the plasma of gaseous mixtures used in the etching of silicon. Part 1: CF4/O2

机译：硅腐蚀中使用的混合气体等离子体中化学过程的建模。第1部分：CF4 / O2用于蚀刻硅的气态混合物等离子体中化学过程的建模。第1部分：CF4 / O2

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G. F. Bauerfeldt; G. Arbilla;
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年度 1998
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